頭孢塞污鈉研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉高速研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉超高速研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉三級(jí)研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉高剪切研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉管線式研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉在線式研磨分散機(jī)，頭孢塞污鈉納米級(jí)研磨分散機(jī)

{別名}

頭孢氨噻肟、氨噻肟頭孢菌素、頭孢泰克松、西孢克拉瑞、 頭孢噻肟、塞福?。粍P福??；凱帝?。?nbsp;氨噻肟頭孢 菌素鈉;泰可欣;先鋒噻肟 、先鋒龍
【外文名】Cefotaxime Sodium , Claforan, CTX,Ceforan, HR-756, Zariviz 
【作用與用途】 
本品第三代半合成頭孢菌素，抗菌譜比頭孢呋肟廣，對(duì)革蘭陰性菌的作用更強(qiáng)，但對(duì)陽性球菌不如第代與第二代頭孢菌素對(duì)綠膿桿菌與厭氧菌僅有低度抗菌作用.抗菌譜包括嗜血性流感桿菌、腸桿菌、沙門桿菌克雷白產(chǎn)氣桿菌屬及奇異變形桿菌、奈瑟菌屬、葡萄球菌、肺炎球菌、鏈球菌等。臨床上主要用于各敏感菌的感染，如呼吸道、五官、腹腔、膽道、腦膜炎、淋病、泌尿系統(tǒng)感染、皮膚軟組織感染、創(chuàng)傷及術(shù)后感染、敗血癥等。

【用法用量】
1.肌注或靜注，成人，中等度感染，1g/次，1次/12小時(shí)；嚴(yán)重感染8g～12g/日，分3～4次；兒童每日100mg～150mg/kg，分2～4次；新生兒每日50mg/kg，分2～4次。本品亦可供靜滴，宜用1g～2g溶于生理鹽水或葡萄糖注射液中稀釋，在20～60分鐘內(nèi)滴注完畢。 
2.肌內(nèi)注射:成人一次0.5～1g，每日3～4次。靜脈滴注:(藥典規(guī)定靜脈滴注一日2～3g)臨床常用每次1～2g，每日3～4次，必要時(shí)每4小時(shí)一次。 
小兒:每日50～100mg/kg(體重)，分3～4次給藥。 
頭孢塞污鈉研磨分散機(jī)NKD2000系列研磨分散設(shè)備是shsina（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
NKD2000系列的特點(diǎn)：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

• 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

技術(shù)參數(shù)